El proceso de tratamiento de superficies por pulverización catódica es una técnica de deposición física en fase vapor (PVD) que implica la eyección de átomos de un material objetivo sólido y la deposición de estos átomos como un recubrimiento de película fina sobre un sustrato. El proceso se lleva a cabo utilizando un plasma gaseoso, que es un gas parcialmente ionizado.
A continuación se explica paso a paso el proceso de sputtering:
1. Se prepara una cámara de vacío y se colocan dentro de ella el material de revestimiento objetivo (cátodo) y el sustrato (ánodo).
2. En la cámara se introduce gas inerte, como argón, neón o criptón. Este gas formará el plasma necesario para el proceso de sputtering.
3. Una fuente de energía aplica una diferencia de potencial o una excitación electromagnética para ionizar los átomos de gas, dándoles una carga positiva.
4. Los iones de gas cargados positivamente son atraídos hacia el material objetivo cargado negativamente. Estos iones colisionan con la superficie del blanco, transfiriendo su energía y provocando la expulsión de átomos del material del blanco.
5. Los átomos expulsados del material objetivo se encuentran en estado neutro y atraviesan la cámara de vacío.
6. A continuación, los átomos neutros se depositan sobre la superficie del sustrato, formando un recubrimiento de película fina. La película pulverizada presenta una excelente uniformidad, densidad, pureza y adherencia.
7. La velocidad de pulverización catódica, que es la velocidad a la que los átomos son expulsados del blanco y depositados sobre el sustrato, depende de varios factores como la corriente, la energía del haz y las propiedades físicas del material del blanco.
El sputtering se utiliza ampliamente en diversas industrias para el tratamiento de superficies y la deposición de películas finas. Suele utilizarse para depositar películas finas de semiconductores, CD, unidades de disco y dispositivos ópticos. La técnica permite producir aleaciones y compuestos de composición precisa mediante sputtering reactivo. Las películas resultantes tienen excelentes propiedades y pueden utilizarse para una amplia gama de aplicaciones.
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