Conocimiento ¿Cómo se limpia un sputter coater? - 3 pasos esenciales para mantener su equipo en plena forma
Avatar del autor

Equipo técnico · Kintek Solution

Actualizado hace 1 mes

¿Cómo se limpia un sputter coater? - 3 pasos esenciales para mantener su equipo en plena forma

La limpieza de un equipo de revestimiento por pulverización catódica es crucial para mantener su rendimiento y longevidad.

A continuación le ofrecemos una guía detallada para ayudarle en el proceso.

¿Cómo se limpia un recubridor por pulverización catódica? - 3 pasos esenciales para mantener su equipo en plena forma

¿Cómo se limpia un sputter coater? - 3 pasos esenciales para mantener su equipo en plena forma

1. Limpieza de la cámara de trabajo

Limpieza de la cámara de vidrio: Limpie a fondo la cámara de cristal con agua caliente y jabón.

Asegúrese de que se seca completamente.

Si hay depósitos persistentes, puede utilizarse un estropajo de cocina.

Evite el uso de disolventes, ya que son innecesarios y suponen riesgos para la salud y la seguridad.

Limpieza de la superficie metálica: Limpie las superficies metálicas con alcohol isopropílico.

Evite utilizar acetona debido a sus riesgos para la salud y la seguridad y a su mayor tiempo de desgasificación, que puede afectar al rendimiento de la aspiradora.

2. Mantenimiento del vacío

Prevención de la aspiración: Aísle siempre la bomba de desbaste de la torre de laca cuando la cámara esté en vacío.

Esto se hace normalmente utilizando una válvula manual.

Por ejemplo, los recubridores por pulverización catódica de alto vacío Quorum tienen una función de "retención de la bomba" que mantiene el vacío cuando el instrumento no está en uso, evitando la contaminación por el aceite de la bomba.

Sequedad del sistema y nivel de vacío: Asegúrese de que el sistema esté seco y alcance el nivel de vacío correcto antes de iniciar el proceso de sputtering.

Esto ayuda a conseguir una buena velocidad de sputtering y evita la contaminación.

Mantenimiento de la bomba: Lastre regularmente las bombas rotativas y repárelas a intervalos regulares para mantener un rendimiento óptimo.

3. Limpieza por pulverización catódica

Sputtering físico: Utilice la pulverización catódica física en vacío para limpiar de contaminantes las superficies de los sólidos.

Este método se utiliza habitualmente en la ciencia de superficies, la deposición en vacío y el metalizado iónico.

Sin embargo, hay que tener cuidado con posibles problemas como el sobrecalentamiento, la incorporación de gas, el daño superficial y la rugosidad.

Asegúrese de que el plasma esté limpio para evitar la recontaminación durante la limpieza por pulverización catódica.

Siga explorando, consulte a nuestros expertos

Libere todo el potencial de su sputter coater con un cuidado experto.

Siga nuestros precisos consejos de limpieza y mantenimiento para obtener un rendimiento y una longevidad óptimos.

Explore nuestra gama de productos de limpieza y herramientas de mantenimiento de alta calidad en KINTEK SOLUTION para aumentar la eficacia y precisión de su laboratorio.

El éxito de su laboratorio es nuestra misión: confíe en KINTEK SOLUTION para todas sus necesidades de investigación.

Compre ahora y dé el primer paso hacia unos resultados impecables.

Productos relacionados

Objetivo de pulverización catódica de cobalto (Co) de alta pureza/polvo/alambre/bloque/gránulo

Objetivo de pulverización catódica de cobalto (Co) de alta pureza/polvo/alambre/bloque/gránulo

Obtenga materiales de cobalto (Co) asequibles para uso en laboratorio, adaptados a sus necesidades únicas. Nuestra gama incluye objetivos de pulverización catódica, polvos, láminas y más. ¡Contáctenos hoy para soluciones personalizadas!

Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD

Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD

Actualice su proceso de recubrimiento con equipos de recubrimiento PECVD. Ideal para LED, semiconductores de potencia, MEMS y mucho más. Deposita películas sólidas de alta calidad a bajas temperaturas.

Horno de sinterización por plasma de chispa Horno SPS

Horno de sinterización por plasma de chispa Horno SPS

Descubra las ventajas de los hornos de sinterización por plasma de chispa para la preparación rápida de materiales a baja temperatura. Calentamiento uniforme, bajo coste y respetuoso con el medio ambiente.

Blanco de pulverización catódica de telururo de cobalto (CoTe) / Polvo / Alambre / Bloque / Gránulo

Blanco de pulverización catódica de telururo de cobalto (CoTe) / Polvo / Alambre / Bloque / Gránulo

Obtenga materiales de telururo de cobalto de alta calidad para sus necesidades de laboratorio a precios razonables. Ofrecemos formas, tamaños y purezas personalizados, incluidos objetivos de pulverización catódica, recubrimientos, polvos y más.

Recubrimiento de evaporación por haz de electrones Crisol de cobre libre de oxígeno

Recubrimiento de evaporación por haz de electrones Crisol de cobre libre de oxígeno

Cuando se utilizan técnicas de evaporación por haz de electrones, el uso de crisoles de cobre sin oxígeno minimiza el riesgo de contaminación por oxígeno durante el proceso de evaporación.

Rejilla de limpieza de PTFE

Rejilla de limpieza de PTFE

Las rejillas de limpieza de PTFE están hechas principalmente de tetrafluoroetileno. El PTFE, conocido como el "Rey de los Plásticos", es un compuesto polimérico hecho de tetrafluoroetileno.

Rejilla de limpieza de sustrato de vidrio conductor de PTFE

Rejilla de limpieza de sustrato de vidrio conductor de PTFE

La rejilla de limpieza de sustrato de vidrio conductivo de PTFE se utiliza como portador de la oblea de silicio de celda solar cuadrada para garantizar un manejo eficiente y libre de contaminación durante el proceso de limpieza.

Equipo HFCVD con revestimiento de nanodiamante y troquel de trefilado

Equipo HFCVD con revestimiento de nanodiamante y troquel de trefilado

La matriz de embutición de revestimiento compuesto de nanodiamante utiliza carburo cementado (WC-Co) como sustrato, y emplea el método de fase de vapor químico (método CVD para abreviar) para recubrir el diamante convencional y el revestimiento compuesto de nanodiamante en la superficie del orificio interior del molde.

Homogeneizador de pegamento de laboratorio completamente automático con cámara de acero inoxidable de 4 pulgadas

Homogeneizador de pegamento de laboratorio completamente automático con cámara de acero inoxidable de 4 pulgadas

El homogeneizador de pegamento de laboratorio totalmente automático con cámara de acero inoxidable de 4 pulgadas es un dispositivo compacto y resistente a la corrosión diseñado para su uso en operaciones con guanteras. Cuenta con una cubierta transparente con posicionamiento de torsión constante y una cavidad interior con apertura de molde integrada para un fácil desmontaje, limpieza y reemplazo.

Cesta de flores para limpieza de vidrio conductor ITO/FTO de laboratorio

Cesta de flores para limpieza de vidrio conductor ITO/FTO de laboratorio

Las rejillas de limpieza de PTFE están hechas principalmente de tetrafluoroetileno. El PTFE, conocido como el "rey de los plásticos", es un compuesto polimérico de tetrafluoroetileno.

Horno de fusión por inducción en vacío Horno de fusión de arco

Horno de fusión por inducción en vacío Horno de fusión de arco

Obtenga una composición precisa de las aleaciones con nuestro horno de fusión por inducción en vacío. Ideal para las industrias aeroespacial, de energía nuclear y electrónica. Haga su pedido ahora para fundir y colar metales y aleaciones de forma eficaz.

Bell-jar Resonator MPCVD Máquina para laboratorio y crecimiento de diamantes

Bell-jar Resonator MPCVD Máquina para laboratorio y crecimiento de diamantes

Obtenga películas de diamante de alta calidad con nuestra máquina Bell-jar Resonator MPCVD diseñada para laboratorio y crecimiento de diamantes. Descubra cómo funciona la deposición de vapor químico de plasma de microondas para el cultivo de diamantes utilizando gas de carbono y plasma.

Sistema de hilado por fusión al vacío

Sistema de hilado por fusión al vacío

Desarrolle materiales metaestables con facilidad utilizando nuestro sistema de hilado por fusión al vacío. Ideal para trabajos de investigación y experimentación con materiales amorfos y microcristalinos. Ordene ahora para obtener resultados efectivos.

Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia

Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia

RF-PECVD es el acrónimo de "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Deposita DLC (película de carbono tipo diamante) sobre sustratos de germanio y silicio. Se utiliza en la gama de longitudes de onda infrarrojas de 3-12um.

Tarro de molienda de aleación de metal con bolas

Tarro de molienda de aleación de metal con bolas

Moler y moler con facilidad utilizando tarros de molienda de aleación de metal con bolas. Elija entre acero inoxidable 304/316L o carburo de tungsteno y materiales de revestimiento opcionales. Compatible con varios molinos y cuenta con funciones opcionales.

Célula electrolítica de baño de agua óptica

Célula electrolítica de baño de agua óptica

Actualice sus experimentos electrolíticos con nuestro baño de agua óptico. Con temperatura controlable y excelente resistencia a la corrosión, se puede personalizar para sus necesidades específicas. Descubra nuestras especificaciones completas hoy.


Deja tu mensaje