Conocimiento ¿Cómo funciona el sputtering por magnetrón? Explicación de los 7 pasos clave
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Equipo técnico · Kintek Solution

Actualizado hace 3 meses

¿Cómo funciona el sputtering por magnetrón? Explicación de los 7 pasos clave

El sputtering con magnetrón es una técnica de deposición física de vapor (PVD) que se utiliza para depositar películas finas sobre sustratos.

Funciona ionizando un material objetivo dentro de una cámara de vacío mediante un plasma generado por un campo magnético.

A continuación, el material ionizado se pulveriza o vaporiza y se deposita sobre el sustrato.

¿Cómo funciona el sputtering por magnetrón? Explicación de 7 pasos clave

¿Cómo funciona el sputtering por magnetrón? Explicación de los 7 pasos clave

1. Configuración de la cámara de vacío

El proceso comienza en una cámara de vacío donde se reduce la presión para facilitar el proceso de sputtering.

Este entorno minimiza la presencia de otros gases que podrían interferir en el proceso de deposición.

2. Introducción del gas inerte

Se introduce en la cámara un gas inerte, normalmente argón.

El gas argón es esencial porque sirve como medio a través del cual se produce la ionización.

3. Creación de plasma

Los imanes de la cámara generan un campo magnético sobre la superficie del blanco.

Este campo magnético, combinado con un alto voltaje aplicado al blanco, crea un plasma cerca del blanco.

El plasma está formado por átomos de gas argón, iones de argón y electrones libres.

4. Ionización y pulverización catódica

Los electrones del plasma colisionan con los átomos de argón, creando iones de argón cargados positivamente.

Estos iones son atraídos por el blanco cargado negativamente.

Cuando chocan con el blanco, expulsan átomos del material del blanco.

5. 5. Deposición sobre el sustrato

Los átomos expulsados del material objetivo viajan a través del vacío y se depositan sobre el sustrato, formando una fina película.

El proceso está muy controlado, lo que permite la deposición precisa de materiales con propiedades específicas.

6. Control por magnetrones

Los magnetrones desempeñan un papel crucial en el control de la trayectoria de los átomos expulsados.

Ayudan a mantener la densidad del plasma cerca del blanco, mejorando la eficacia del proceso de sputtering.

El campo magnético confina los electrones cerca del blanco, aumentando su interacción con el gas argón y, por tanto, la tasa de ionización.

7. Formación de la película fina

Los átomos expulsados del blanco se condensan en la superficie del sustrato, formando una fina película.

Esta película puede ser de diversos materiales en función de la composición del blanco.

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