Los métodos de fabricación de películas finas incluyen la deposición química y la deposición física.
Los métodos de deposición química implican la reacción de un fluido precursor sobre el sustrato, lo que da lugar a la formación de una capa fina sobre el sólido. Algunos métodos populares de deposición química son la galvanoplastia, el sol-gel, el recubrimiento por inmersión, el recubrimiento por rotación, la deposición química en fase vapor (CVD), la CVD mejorada por plasma (PECVD) y la deposición de capas atómicas (ALD). Estos métodos ofrecen ventajas como la sencillez de fabricación, la excelente uniformidad de la película, la capacidad de cubrir superficies de cualquier tamaño y en áreas extensas, y la baja temperatura de procesamiento. Sin embargo, pueden requerir equipos sofisticados y salas limpias.
Los métodos de deposición física incluyen la deposición física en fase vapor (PVD) y diversas técnicas dentro de ella. Los métodos PVD implican la deposición de átomos o moléculas sobre un sustrato por medios físicos. La pulverización catódica es una técnica de PVD comúnmente utilizada en la que los iones de argón, creados por descarga luminosa en vacío, pulverizan átomos/moléculas objetivo, que se adhieren a los sustratos y forman una fina película. Otras técnicas de PVD son la evaporación térmica, el recubrimiento con carbono, el haz de electrones y la deposición por láser pulsado (PLD). Los métodos PVD son conocidos por su buena precisión y uniformidad.
Además, existen métodos rentables de recubrimiento de películas finas, como el recubrimiento por inmersión, el recubrimiento por rotación, el recubrimiento por pulverización, el recubrimiento por cuchilla y el recubrimiento por rodillo. Estos métodos tienen sus propias ventajas e inconvenientes en función de la aplicación propuesta. Pueden no ser adecuados para la producción a gran escala debido a ciertas limitaciones. Sin embargo, ofrecen películas finas con buena homogeneidad y baja rugosidad superficial.
En general, la elección del método de fabricación de películas finas depende de factores como el tipo y el tamaño del sustrato, los requisitos de grosor y rugosidad de la superficie, consideraciones económicas y la disponibilidad de equipos e instalaciones.
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