La deposición en química se refiere al proceso de crear capas finas o gruesas de una sustancia átomo a átomo o molécula a molécula sobre una superficie sólida. Este proceso da lugar a un revestimiento que altera las propiedades de la superficie del sustrato, en función de la aplicación prevista.
El depósito químico en fase vapor (CVD) es un método específico utilizado para la deposición, caracterizado por la formación de una película sólida sobre una superficie calentada debido a una reacción química en la fase de vapor. Este método implica varios pasos clave:
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Evaporación de un compuesto volátil: La sustancia que se va a depositar se evapora primero a partir de su estado compuesto. Esto se consigue normalmente calentando el compuesto hasta su punto de vaporización, convirtiéndolo en gas.
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Descomposición térmica o reacción química: El vapor sufre una descomposición térmica en átomos y moléculas, o reacciona con otros vapores, gases o líquidos en la superficie del sustrato. Este paso es crucial para la formación de la composición química deseada de la película.
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Deposición de productos de reacción no volátiles: Los productos de las reacciones químicas, que no son volátiles, se depositan sobre el sustrato. Esto da lugar a la formación de una fina película o recubrimiento sobre la superficie.
Por lo general, el proceso CVD requiere condiciones específicas, como presiones que van desde unos pocos torr hasta por encima de la presión atmosférica y temperaturas relativamente altas, a menudo en torno a los 1000°C. Estas condiciones facilitan la descomposición y reacción eficaces de los compuestos vaporizados.
El CVD se utiliza ampliamente para producir películas finas y revestimientos de alta calidad. Implica el uso de reactivos gaseosos, que se transportan a una cámara de reacción donde se descomponen en una superficie de sustrato calentada. Esta descomposición no sólo forma el revestimiento deseado, sino que también produce subproductos químicos, que se eliminan de la cámara de reacción junto con los precursores volátiles que no han reaccionado. Entre los materiales que suelen depositarse mediante CVD se encuentran los siliciuros, los óxidos metálicos, los sulfuros y los arseniuros.
En resumen, la deposición en química, especialmente mediante métodos como el CVD, es un proceso crítico para crear películas finas y recubrimientos que pueden mejorar significativamente las propiedades y funcionalidades de diversos materiales y superficies.
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