Conocimiento ¿Qué es el proceso de deposición de películas para semiconductores? Explicación de 5 técnicas clave
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Actualizado hace 4 semanas

¿Qué es el proceso de deposición de películas para semiconductores? Explicación de 5 técnicas clave

El proceso de deposición de películas de semiconductores es un paso crucial en la fabricación de dispositivos electrónicos. Consiste en aplicar finas capas de materiales sobre una oblea de silicio para conferirles propiedades eléctricas específicas.

Explicación de 5 técnicas clave

¿Qué es el proceso de deposición de películas para semiconductores? Explicación de 5 técnicas clave

1. Deposición química en fase vapor (CVD)

El CVD es una técnica muy utilizada en la industria de los semiconductores. Utiliza precursores gaseosos que se someten a una reacción química para formar un recubrimiento sólido sobre el sustrato. Este proceso suele tener lugar en una cámara de reacción a alta temperatura. El CVD es versátil y puede crear capas de materiales dieléctricos (aislantes) y metálicos (conductores) necesarios para los dispositivos semiconductores.

2. CVD mejorado por plasma (PECVD)

El PECVD es una variante del CVD. Utiliza plasma para mejorar el proceso de deposición, lo que permite formar capas aislantes críticas y estructuras metálicas precisas.

3. CVD de plasma de alta densidad (HDP-CVD)

El HDP-CVD es otra variante del CVD. Utiliza plasma de alta densidad para mejorar la calidad y el control de las capas depositadas.

4. Deposición de capas atómicas (ALD)

El ALD es una variante muy precisa del CVD. Permite la formación de capas extremadamente finas y uniformes, esenciales para los dispositivos semiconductores modernos.

5. Deposición física en fase vapor (PVD)

Los métodos PVD, como el sputtering, la evaporación térmica y la evaporación por haz de electrones, se utilizan para producir recubrimientos de gran pureza. Estas técnicas implican el proceso físico de expulsar material de una fuente y depositarlo sobre el sustrato. El PVD es especialmente útil para aplicaciones que requieren una gran pureza y un control preciso del grosor y la composición de la capa depositada.

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