La deposición de metales por vapor es un proceso utilizado para depositar capas finas de metal sobre un sustrato, normalmente en un entorno de vacío. Este proceso implica convertir el metal en un estado de vapor y luego condensarlo sobre la superficie del sustrato para formar una fina película. Existen dos tipos principales de deposición de vapor: la deposición física de vapor (PVD) y la deposición química de vapor (CVD).
Deposición física de vapor (PVD):
En el PVD, el metal se excita mediante procesos termodinámicos o electromecánicos, lo que provoca que libere moléculas específicas en forma de vapor. A continuación, este vapor se deposita sobre el sustrato. Entre las técnicas de PVD más comunes se encuentran la evaporación térmica en vacío, la deposición por pulverización catódica y la deposición por haz de electrones. La evaporación térmica en vacío consiste en calentar el metal hasta su punto de ebullición en el vacío, lo que hace que se evapore y se deposite sobre el sustrato. La deposición por pulverización catódica consiste en bombardear un blanco metálico con partículas de alta energía, lo que provoca la expulsión de átomos que se depositan en el sustrato. La deposición por haz de electrones utiliza un haz de electrones para calentar el metal, haciendo que se evapore y se deposite sobre el sustrato.Deposición química en fase vapor (CVD):
El CVD implica una reacción química para producir la fase de vapor del metal. Los productos químicos utilizados en este proceso se descomponen en la superficie del sustrato, depositando la película metálica. El CVD permite un control preciso de la fase y la estructura de la película depositada, lo que lo hace versátil para diversas aplicaciones.
Aplicaciones:
La deposición de metales por vapor se utiliza en una amplia gama de aplicaciones, como la fabricación de semiconductores, los sistemas de fibra óptica, los sistemas láser industriales, la electrónica médica, los dispositivos biomédicos, las aplicaciones ópticas y de imagen avanzadas y diversos productos electrónicos de consumo, comerciales e industriales.Ventajas:
Las ventajas de los sistemas de deposición de vapor incluyen la capacidad de controlar con precisión el proceso de deposición, la capacidad de producir grandes cantidades de películas delgadas y la relativa facilidad de configuración y uso. Esto hace que la deposición de vapor sea una opción atractiva tanto para aplicaciones industriales a gran escala como para pequeñas empresas.
