El argón se utiliza en el sputtering magnetrónico principalmente por su elevada velocidad de sputtering, su naturaleza inerte, su bajo precio y la disponibilidad de gas puro.
Estas propiedades lo convierten en la opción ideal para el proceso de deposición de películas finas sobre sustratos en un entorno de vacío.
Alta velocidad de sputtering
El argón tiene una elevada velocidad de pulverización catódica, lo que significa que expulsa átomos del material objetivo de forma eficaz.
Esto es crucial en el proceso de pulverización catódica por magnetrón, en el que el objetivo es depositar una película fina del material objetivo sobre un sustrato.
La elevada velocidad de expulsión de átomos permite una deposición más rápida, lo que mejora la eficacia del proceso.
Naturaleza inerte
El argón es un gas inerte, lo que significa que no reacciona fácilmente con otros elementos.
Esta característica es importante en el sputtering porque evita reacciones químicas no deseadas entre el gas de sputtering y el material objetivo o el sustrato.
Tales reacciones podrían alterar las propiedades de la película depositada o dañar el sustrato.
Bajo precio y disponibilidad
El argón es relativamente barato y fácilmente disponible en alta pureza, lo que lo hace económicamente viable para aplicaciones industriales.
La rentabilidad y accesibilidad del argón contribuyen a su uso generalizado en los procesos de sputtering, en los que a menudo se requieren grandes volúmenes de gas.
Papel en el sputtering por magnetrón
En el sputtering por magnetrón, el gas argón se ioniza en presencia de un campo magnético que confina los electrones cerca del material objetivo, aumentando la ionización del argón.
Este aumento de la ionización da lugar a una mayor concentración de iones de argón (Ar+), que son atraídos por el blanco cargado negativamente.
El impacto de estos iones sobre el blanco hace que el material objetivo sea pulverizado, o expulsado, y depositado sobre el sustrato.
El campo magnético también ayuda a reducir la presión del gas en la cámara, mejorando la línea de visión para la deposición y reduciendo el número de colisiones de gas, lo que mejora la calidad y uniformidad de la película depositada.
En resumen, las propiedades del argón lo convierten en una opción superior para el sputtering magnetrónico, permitiendo la deposición eficaz, de alta calidad y rentable de películas finas.
Su naturaleza inerte, su elevada velocidad de sputtering y sus ventajas económicas son factores clave que contribuyen a su uso en esta tecnología.
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