La deposición química en fase vapor (CVD) es un método muy versátil y rápido para producir revestimientos densos y puros de espesor uniforme.
Se trata de un enfoque ascendente que implica una reacción química de un precursor químico gaseoso impulsado por calor o plasma para producir películas finas sobre un sustrato.
5 puntos clave que hay que conocer
1. Tasas de deposición elevadas
El CVD es un método relativamente rápido de deposición de películas finas.
Ofrece altas tasas de deposición, especialmente cuando se utiliza plasma para mejorar el proceso de deposición.
2. CVD mejorado por plasma (PECVD)
La deposición química en fase vapor mejorada por plasma (PECVD) permite mejorar las velocidades de deposición a una temperatura de sustrato reducida, ya que los reactivos se encuentran en forma de plasma.
Esto lo hace adecuado para depositar películas delgadas de materiales como nitruro de silicio, silicio amorfo y silicio microcristalino sobre diversos sustratos.
3. Deposición química en fase vapor por láser
La velocidad del proceso CVD también puede aumentarse utilizando la deposición química en fase vapor por láser.
En este método, se utiliza un rayo láser para calentar una parte del sustrato, haciendo que la deposición se produzca más rápidamente en el lado calentado.
4. Ventajas adicionales
Además de su rápida velocidad de deposición, la deposición química en fase vapor ofrece otras ventajas.
Es un método de recubrimiento relativamente asequible y puede utilizarse para recubrir diversos elementos y compuestos.
Los recubrimientos resultantes tienen una gran pureza y una adhesión encomiable.
El proceso también permite un recubrimiento uniforme y, dado que es un proceso sin línea de visión, no requiere una línea de visión directa entre el material objetivo y el sustrato, lo que hace posible recubrir varias piezas en una sola reacción.
5. Aplicaciones
Además, la deposición química de vapor tiene la capacidad de crear capas ultrafinas, lo que la hace ideal para aplicaciones que requieren revestimientos finos, como los circuitos eléctricos.
En general, la deposición química en fase vapor es un método versátil, rápido y eficaz de deposición de capas finas con varias ventajas sobre otras técnicas de deposición.
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