El método químico para la deposición de películas finas se denomina deposición química en fase vapor (CVD). En el CVD, se coloca un sustrato en una cámara de vacío y se calientan dos precursores químicos, haciendo que se vaporicen. Cuando estos precursores vaporizados se encuentran en la superficie del sustrato, se produce una reacción química que da lugar a la formación de un recubrimiento de película fina. El CVD es una técnica muy utilizada para crear películas finas de alto rendimiento con propiedades materiales específicas. Se utiliza habitualmente en la fabricación de semiconductores y en otros sectores en los que se requiere un control preciso de la composición y el grosor de la película.
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