El método químico de deposición de películas finas se denomina deposición química en fase vapor (CVD).
En el CVD, se coloca un sustrato en una cámara de vacío.
Se calientan dos precursores químicos y se vaporizan.
Cuando estos precursores vaporizados se encuentran en la superficie del sustrato, se produce una reacción química.
Esta reacción da lugar a la formación de un recubrimiento de película fina.
El CVD es una técnica muy utilizada para crear películas finas de alto rendimiento con propiedades materiales específicas.
Se utiliza habitualmente en la fabricación de semiconductores y en otras industrias en las que se requiere un control preciso de la composición y el grosor de la película.
¿Qué es el método químico para la deposición de películas finas? 5 puntos clave que debe conocer
1. Deposición química en fase vapor (CVD)
CVD es el método químico utilizado para la deposición de películas delgadas.
2. Colocación del sustrato
Un sustrato se coloca en una cámara de vacío durante el proceso.
3. 3. Calentamiento y vaporización
Se calientan dos precursores químicos, provocando su vaporización.
4. 4. Reacción química
Cuando estos precursores vaporizados se encuentran en la superficie del sustrato, se produce una reacción química.
5. 5. Formación de una película fina
Esta reacción da lugar a la formación de un revestimiento de película fina.
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