El impacto de la temperatura del sustrato en las propiedades de la película puede resumirse de la siguiente manera:
1. Fase cristalina: El aumento de la temperatura del sustrato puede provocar cambios en la fase cristalina de la película delgada. Por ejemplo, un aumento de la temperatura puede provocar una transformación de una fase amorfa a una fase cristalina.
2. Tamaño de los cristalitos: Una mayor temperatura del sustrato puede provocar una disminución del tamaño de los cristalitos de la película delgada. Esto se debe a la mayor difusión y crecimiento de la red cristalina a temperaturas más altas.
3. Proporción de estequiometría: La temperatura del sustrato también afecta a la proporción estequiométrica de la película delgada. Aumentar la temperatura puede conducir a una composición más equilibrada de la película, mejorando su calidad general.
4. Morfología superficial: La morfología superficial de la película fina puede verse influida por la temperatura del sustrato. Las temperaturas más altas pueden potenciar las reacciones superficiales y dar lugar a una superficie de la película más lisa y uniforme.
5. Valor de la brecha de banda: El aumento de la temperatura del sustrato también puede influir en el valor de la brecha de banda de la película delgada. Esto se atribuye a los cambios en la fase cristalina, el tamaño del cristalito y la proporción de estequiometría, que afectan a las propiedades electrónicas de la película.
6. Densidad de defectos: El aumento de la temperatura del sustrato puede ayudar a compensar los enlaces suspendidos en la superficie de la película, lo que conduce a una disminución de la densidad de defectos. Esto mejora la calidad general de la película.
7. 7. Adhesión, cristalinidad y tensión: La temperatura del sustrato es un parámetro importante que afecta a la adhesión, cristalinidad y tensión de la película fina depositada. Si se optimiza la temperatura, se pueden conseguir la calidad y las propiedades deseadas de la película.
8. Velocidad de deposición: La velocidad a la que el material pulverizado se deposita sobre el sustrato, conocida como velocidad de deposición, puede verse influida por la temperatura del sustrato. La optimización de la velocidad de deposición ayuda a conseguir el espesor y la uniformidad deseados de la película.
En resumen, la temperatura del sustrato desempeña un papel crucial en la determinación de la estructura cristalina, la morfología de la superficie, la estequiometría y las propiedades electrónicas de la película fina. Mediante el control de la temperatura del sustrato, los investigadores e ingenieros pueden adaptar las propiedades de la película para satisfacer los requisitos específicos de diversas aplicaciones.
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