Conocimiento ¿Qué es la deposición al vacío o evaporación térmica al vacío VTE?
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Actualizado hace 1 semana

¿Qué es la deposición al vacío o evaporación térmica al vacío VTE?

La deposición en vacío, concretamente la evaporación térmica o evaporación térmica en vacío (ETV), es un método utilizado en la fabricación y la investigación para depositar películas finas de material sobre un sustrato. Este proceso consiste en calentar un material en una cámara de vacío hasta que se vaporiza y luego se condensa sobre un sustrato.

El proceso:

El proceso de evaporación térmica comienza con una cámara de vacío, normalmente de acero inoxidable, que alberga un crisol o recipiente de materiales refractarios como el tungsteno o el molibdeno. El material que se va a depositar, conocido como evaporante, se coloca dentro de este crisol o barca. El entorno de vacío es crucial, ya que impide que el material vaporizado choque con las moléculas de gas, lo que garantiza un proceso de deposición limpio. La presión de vacío oscila entre 10^-5 y 10^-9 Torr, dependiendo del nivel de contaminación deseado en la película depositada. Para una deposición eficaz, la presión de vapor del material debe alcanzar al menos 10 mTorr.Métodos de evaporación:

  1. La evaporación térmica puede lograrse mediante dos métodos principales:
  2. Calentamiento eléctrico: Consiste en calentar el material mediante hilos calentados eléctricamente o en crisoles fabricados con materiales con puntos de fusión más altos. Este método es adecuado para materiales que no tienen puntos de fusión extremadamente altos.

Calentamiento por haz de electrones: Para materiales con puntos de fusión más altos, puede utilizarse un haz de electrones para calentar y vaporizar el material. Este método permite un control preciso del proceso de calentamiento y puede utilizarse con una gama más amplia de materiales.

Condiciones de vacío:

La presión de base necesaria en el dispositivo de recubrimiento suele estar entre 10^-7 y 10^-5 mbar, dependiendo de la calidad de la capa requerida. Este entorno de alto vacío es esencial para la deposición física en fase vapor (PVD), ya que garantiza que el material se deposite en el sustrato sin interferencias de moléculas de gas.

Aplicaciones:

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