El depósito químico en fase vapor mejorado por plasma (PECVD) utiliza varios gases en función de la aplicación específica y de la composición deseada de la película.
5 Gases comúnmente utilizados en PECVD
1. Silano (SiH4)
El silano es un gas precursor que se utiliza a menudo en los procesos de PECVD para depositar películas basadas en silicio, como el nitruro de silicio y el óxido de silicio.
Se mezcla con otros gases para controlar las propiedades de la película.
2. Amoníaco (NH3)
El amoníaco es otro gas precursor utilizado en los procesos de PECVD.
Se suele utilizar en combinación con silano para depositar películas de nitruro de silicio.
El amoníaco ayuda a controlar el contenido de nitrógeno en la película.
3. Argón (Ar)
El argón es un gas inerte que se utiliza a menudo como gas portador o gas diluyente en los procesos de PECVD.
Se mezcla con gases precursores para controlar la reacción y asegurar la deposición uniforme de la película.
4. Nitrógeno (N2)
El nitrógeno es otro gas inerte que puede utilizarse en los procesos de PECVD.
Se suele utilizar como gas portador o gas diluyente para controlar la reacción y evitar reacciones no deseadas en fase gaseosa.
5. Metano (CH4), etileno (C2H4) y acetileno (C2H2)
Estos gases hidrocarburos se utilizan en los procesos PECVD para el crecimiento de nanotubos de carbono (CNT).
Son disociados por el plasma para generar productos de carbono amorfo.
Para evitar la formación de productos amorfos, estos gases suelen diluirse con argón, hidrógeno o amoníaco.
Siga explorando, consulte a nuestros expertos
¿Busca gases de alta calidad para sus procesos PECVD?No busque más, ¡consulte a KINTEK!
Estamos especializados en el suministro de una amplia gama de gases precursores e inertes para el depósito químico en fase vapor mejorado por plasma.
Desde silano y amoníaco hasta argón y nitrógeno, tenemos todos los gases que necesita para controlar su proceso PECVD.
También ofrecemos fuentes de hidrocarburos como metano, etileno y acetileno para el cultivo de nanotubos de carbono.
Nuestros gases se diluyen cuidadosamente para evitar la formación de productos amorfos.
Confíe en KINTEK para un suministro de gas fiable y eficiente.
Póngase en contacto con nosotros hoy mismo para optimizar la presión de su reactor PECVD con nuestros gases de primera calidad.
