Conocimiento ¿Cuál es la historia del sputtering por magnetrón?
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Actualizado hace 1 semana

¿Cuál es la historia del sputtering por magnetrón?

La historia del pulverización catódica por magnetrón se remonta a mediados del siglo XIX, cuando se observaron los primeros fenómenos de pulverización catódica. Sin embargo, no fue hasta mediados del siglo XX cuando el sputtering adquirió relevancia comercial, especialmente con el desarrollo del sputtering de diodos en la década de 1940. El verdadero avance en la tecnología del sputtering se produjo con la introducción del sputtering por magnetrón en la década de 1970, que mejoró significativamente la eficacia y aplicabilidad del proceso.

Primeros avances (1850-1940):

El sputtering se observó por primera vez en la década de 1850, cuando se utilizaba para la deposición de metales refractarios que no podían depositarse por evaporación térmica. El proceso consistía en utilizar una descarga eléctrica para depositar películas metálicas sobre un cátodo frío. Esta primera forma de pulverización catódica fue limitada y no se generalizó debido a su escasa eficacia y a sus elevados costes.Relevancia comercial y sputtering de diodos (décadas de 1940 a 1960):

En la década de 1940 se introdujo el sputtering por diodos, que empezó a encontrar aplicaciones comerciales como proceso de revestimiento. A pesar de su adopción inicial, el sputtering de diodos seguía enfrentándose a retos debido a sus bajas tasas de deposición y sus elevados costes, lo que limitaba su uso generalizado.

Introducción del sputtering por magnetrón (década de 1970):

El verdadero avance en la tecnología de pulverización catódica se produjo a mediados de la década de 1970 con el desarrollo de la pulverización catódica por magnetrón. Esta técnica implicaba el uso de un campo magnético cerrado sobre la superficie del blanco, lo que mejoraba la eficacia de la generación de plasma al aumentar la probabilidad de colisiones entre electrones y átomos de argón cerca de la superficie del blanco. Esta innovación aumentó significativamente las tasas de deposición y redujo los costes, convirtiendo el sputtering por magnetrón en el método preferido para diversas aplicaciones en industrias como la microelectrónica y el vidrio arquitectónico.

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