Conocimiento ¿Cuáles son los 6 pasos clave del proceso CVD?
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Equipo técnico · Kintek Solution

Actualizado hace 1 mes

¿Cuáles son los 6 pasos clave del proceso CVD?

El proceso CVD (depósito químico en fase vapor) es un sofisticado método utilizado para crear películas finas sobre sustratos.

Implica varios pasos críticos para garantizar que la película deseada se deposita con precisión y eficacia.

¿Cuáles son los 6 pasos clave del proceso CVD?

¿Cuáles son los 6 pasos clave del proceso CVD?

1. Alimentación de precursores

Los precursores químicos se introducen en el reactor CVD.

Estos precursores pueden ser gases o vapores que reaccionarán para formar la película fina deseada sobre el sustrato.

2. Transporte a la superficie del sustrato

Una vez dentro del reactor, las moléculas precursoras deben ser transportadas a la superficie del sustrato.

Esto se consigue normalmente mediante una combinación de transporte de fluidos y difusión.

3. Adsorción

Las moléculas precursoras que alcanzan la superficie del sustrato deben adsorberse en ella.

La adsorción es el proceso por el cual las moléculas precursoras se adhieren a la superficie.

4. Reacciones superficiales

Una vez adsorbidas, las moléculas precursoras sufren reacciones químicas en la superficie del sustrato o cerca de ella.

Estas reacciones pueden ser térmicas o asistidas por plasma, dependiendo del método específico de CVD utilizado.

5. Desorción

Después de que se produzcan las reacciones superficiales, las moléculas de subproductos y las moléculas de precursores que no hayan reaccionado deben desorberse de la superficie del sustrato.

Esto deja espacio para más moléculas precursoras entrantes para continuar el proceso de deposición.

6. Tratamiento de residuos

El proceso CVD puede producir materiales residuales, subproductos y gases precursores que no han reaccionado.

Es necesario tratarlos y eliminarlos de la cámara de reacción para mantener un entorno limpio y evitar la contaminación.

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