El depósito químico en fase vapor (CVD) es un proceso que utiliza reactivos gaseosos o líquidos para formar una película sólida sobre un sustrato.
Explicación de los 6 pasos clave
1. Introducción de reactivos
El proceso comienza con la introducción de reactivos. Éstos suelen estar en forma gaseosa o líquida volátil y contienen los elementos necesarios para formar la película deseada.
2. Cámara de reacción
Los reactivos se introducen en una cámara de reacción. Esta cámara suele estar al vacío para controlar el entorno y garantizar la pureza del proceso de deposición.
3. Aplicación de energía
Se aplican varias formas de energía para iniciar y mantener las reacciones químicas. Esto puede incluir el aumento de la temperatura, el uso de plasma o el empleo de radiación luminosa.
4. Reacciones químicas
En la superficie del sustrato, los reactivos sufren reacciones químicas. Estas reacciones conducen a la formación de una nueva sustancia sólida, que se deposita como una película sobre el sustrato.
5. Deposición y formación de la película
A medida que continúan las reacciones, el material de la película deseada se acumula en el sustrato. Este proceso se controla cuidadosamente para garantizar una película uniforme y bien adherida.
6. Ventajas y aplicaciones
El CVD es conocido por su versatilidad y capacidad para producir películas de gran pureza con un control preciso de sus propiedades. Se utiliza ampliamente en industrias como la de los semiconductores y la ciencia de los materiales.
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