La temperatura del plasma de sputtering en magnetrón puede variar dependiendo de las condiciones específicas del proceso y del material objetivo. En los procesos de sputtering reactivo con capacidad de enfriamiento limitada para el blanco, la temperatura puede oscilar entre 720 y 1210 °C. Este rango de temperatura se consigue generando pulsos de plasma a frecuencias que oscilan entre 0,5 y 1 Hz.
El sputtering por magnetrón es un proceso en el que se aplica al blanco una tensión negativa de -300 V o más. Esta tensión negativa atrae iones positivos a la superficie del blanco a gran velocidad. Cuando un ion positivo colisiona con los átomos de la superficie del blanco, se produce una transferencia de energía. Si la energía transferida a un sitio de la red es mayor que la energía de enlace, pueden crearse átomos primarios de retroceso, que pueden colisionar con otros átomos y distribuir su energía mediante cascadas de colisiones. Un átomo superficial se convierte en sputtered si la energía que se le transfiere normal a la superficie es superior a unas 3 veces la energía de enlace superficial.
El uso de un campo magnético en el sputtering por magnetrón, conocido como efecto de atrapamiento, permite aumentar la velocidad de ionización y deposición del revestimiento a temperaturas más bajas. El campo magnético controla la trayectoria de transmisión del plasma y las líneas magnéticas formadas guían el plasma de un extremo a otro del blanco. Esta trayectoria de transmisión basada en el campo magnético aumenta la cantidad de plasma, lo que mejora la eficacia del proceso de producción. Este método se denomina a veces sputtering de magnetrón equilibrado.
En resumen, la temperatura del plasma de sputtering en el magnetrón puede controlarse y ajustarse en función de las condiciones y requisitos específicos del proceso. El uso de un voltaje negativo y un campo magnético en el sputtering por magnetrón permite una ionización y sputtering eficientes de los átomos objetivo, lo que conduce a la deposición de películas finas sobre sustratos.
¿Busca equipos de laboratorio de alta calidad para sus experimentos de pulverización catódica con plasma? No busque más: ¡KINTEK! Nuestros productos de vanguardia están diseñados para soportar las intensas temperaturas y los requisitos de potencia del sputtering de magnetrón. Con nuestros equipos, puede lograr un control preciso de la densidad de iones y la transferencia de energía, garantizando resultados óptimos para su investigación. No pierda la oportunidad de elevar sus experimentos al siguiente nivel. Póngase en contacto con KINTEK hoy mismo y compruebe usted mismo la diferencia.
