El depósito químico en fase vapor (CVD) es un proceso en el que un sustrato se expone a precursores volátiles.
Estos precursores reaccionan y/o se descomponen en la superficie del sustrato para producir el depósito deseado.
La temperatura utilizada en el CVD puede variar en función de la aplicación específica.
¿A qué temperatura se realiza el depósito químico en fase vapor? (Explicación de las 4 temperaturas clave)
1. Temperaturas típicas de CVD
En el CVD típico, el sustrato se expone a uno o más precursores volátiles con alta presión de vapor a bajas temperaturas.
Estas temperaturas oscilan entre 373-673 K (100-400 °C).
Los precursores pueden ser cloruros o compuestos organometálicos.
La baja temperatura se elige para asegurar que los precursores estén en fase gaseosa y puedan reaccionar fácilmente sobre la superficie del sustrato para formar el depósito deseado.
2. Altas temperaturas en la destilación de petróleo
En otras aplicaciones, como la destilación de aceite o la evaporación de disolventes en un rotavapor, se utilizan temperaturas más elevadas.
Por ejemplo, en los alambiques moleculares de película húmeda de trayecto corto utilizados para la destilación de petróleo, las temperaturas pueden alcanzar hasta 343 grados Celsius (650 grados Fahrenheit).El rango típico de temperatura de destilación es de 130-180 grados Celsius (266-356 grados Fahrenheit).En estos sistemas, la materia prima o el disolvente se distribuye en la pared de la cámara de evaporación y se forma una fina película. Los componentes más volátiles se evaporan y se recogen por separado, mientras que el compuesto deseado se recoge en una unidad condensadora central de temperatura controlada más fría.
