La deposición química en fase vapor (CVD) es un proceso en el que un sustrato se expone a precursores volátiles que reaccionan y/o se descomponen en la superficie del sustrato para producir el depósito deseado. La temperatura utilizada en el CVD puede variar en función de la aplicación específica.
En la CVD típica, el sustrato se expone a uno o más precursores volátiles con alta presión de vapor a bajas temperaturas que oscilan entre 373-673 K (100-400 °C). Estos precursores pueden ser cloruros o compuestos organometálicos. La baja temperatura se elige para garantizar que los precursores estén en fase gaseosa y puedan reaccionar fácilmente en la superficie del sustrato para formar el depósito deseado.
En otras aplicaciones, como la destilación de aceite o la evaporación de disolventes en un rotavapor, se utilizan temperaturas más elevadas. Por ejemplo, en los alambiques moleculares de película húmeda de trayecto corto utilizados para la destilación de petróleo, las temperaturas pueden alcanzar hasta 343 grados Celsius (650 grados Fahrenheit). El rango típico de temperatura de destilación es de 130-180 grados Celsius (266-356 grados Fahrenheit). En estos sistemas, la materia prima o el disolvente se distribuye en la pared de la cámara de evaporación y se forma una fina película. Los componentes más volátiles se evaporan y se recogen por separado, mientras que el compuesto deseado se recoge en una unidad condensadora central de temperatura controlada más fría. El último paso del proceso es la eliminación del disolvente, que normalmente se realiza en una trampa fría externa separada que también está a temperatura controlada.
En un evaporador rotativo, se utiliza la regla empírica "Delta 20" para optimizar el proceso de evaporación. Según esta regla, la temperatura efectiva del vapor es aproximadamente 20 grados Celsius inferior a la temperatura fijada en el baño de calentamiento. Esto se debe a que el proceso de evaporación desprende energía y calor de la mezcla líquida. Para una condensación eficaz, la temperatura de refrigeración en el condensador debe ser al menos 20 grados Celsius inferior a la temperatura efectiva del vapor.
En general, la temperatura en la deposición química de vapor puede variar en función de la aplicación específica y de los precursores o compuestos que se utilicen. Es importante elegir la temperatura adecuada para garantizar que el proceso de deposición o evaporación deseado se lleve a cabo con eficacia.
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