La deposición de vapor es un método utilizado para crear revestimientos de película fina sobre diversos sustratos, normalmente en un entorno de vacío parcial.
Esta técnica implica la deposición de material desde una fuente vaporizada sobre una superficie objetivo, lo que da como resultado un revestimiento consistente y de gran pureza.
Existen distintos tipos de deposición en fase vapor, como la deposición física en fase vapor (PVD), la deposición química en fase vapor (CVD) y la deposición por plasma.
Explicación de los 5 métodos clave
1. Deposición física de vapor (PVD)
La deposición física en fase vapor (PVD) engloba varias tecnologías de deposición en las que el material se libera de una fuente y se transfiere a un sustrato.
Un método común de PVD es la evaporación térmica, que consiste en calentar un material sólido dentro de una cámara de alto vacío, haciendo que se vaporice y forme una nube de vapor.
A continuación, la corriente de vapor atraviesa la cámara y se deposita sobre el sustrato en forma de revestimiento de película fina.
Los procesos de PVD, como la evaporación resistiva, proporcionan herramientas rentables para crear películas finas de metales y no metales, con mayores velocidades de deposición y revestimientos más gruesos en comparación con los procesos de sputtering.
2. Deposición química en fase vapor (CVD)
La deposición química en fase vapor (CVD) consiste en colocar el sustrato en una cámara de reacción llena de un material de recubrimiento gaseoso.
El gas reacciona con el material objetivo para crear el espesor de revestimiento deseado.
Este método es distinto del PVD, ya que se basa en reacciones químicas para formar el revestimiento.
3. Deposición por plasma
La deposición de plasma implica el sobrecalentamiento del gas de recubrimiento en una forma iónica que reacciona con la superficie atómica de la pieza, normalmente a presiones elevadas.
Este proceso da lugar a la formación de un revestimiento con propiedades únicas.
4. Deposición de vapor por arco
La deposición de vapor por arco es un proceso de deposición específico que utiliza un arco eléctrico a alta corriente y baja tensión para vaporizar un electrodo catódico o anódico.
A continuación, el material vaporizado se deposita sobre un sustrato, ionizándose una parte importante de los átomos metálicos.
Este método es particularmente útil para formar revestimientos gruesos y puede emplearse en operaciones de revestimiento de superficies decorativas duras.
5. Resumen del depósito en fase de vapor
En resumen, la deposición de vapor es una técnica versátil para crear recubrimientos de película fina sobre diversos sustratos, con diferentes métodos adaptados a aplicaciones específicas y propiedades de recubrimiento deseadas.
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