El depósito químico en fase vapor (CVD) es un proceso que ofrece varias ventajas e inconvenientes.
Ventajas del CVD
1. Deposición sin visibilidad directa
A diferencia de otros procesos de recubrimiento, el CVD no requiere una deposición en línea visual.
Esta capacidad le permite recubrir superficies que no son directamente accesibles o que tienen geometrías complejas.
Esto aumenta su aplicabilidad en diversas industrias.
2. Síntesis de recubrimientos gruesos
El CVD es ventajoso para sintetizar recubrimientos gruesos.
Esto es económicamente beneficioso, ya que reduce el número de ciclos de recubrimiento necesarios.
Ahorra tiempo y recursos.
3. Flexibilidad en la deposición
El proceso permite la codeposición de diferentes materiales.
También incluye el uso de plasma o iniciadores y puede funcionar a presión atmosférica.
Esto proporciona una plataforma versátil para la ingeniería de materiales.
4. Uniformidad y alta pureza
El CVD puede producir películas finas con excelente uniformidad y alta pureza.
Esto es crítico para aplicaciones que requieren propiedades de material precisas y consistentes.
5. Escalabilidad
El proceso puede escalarse desde la investigación a pequeña escala hasta la producción industrial a gran escala.
Esto lo hace adaptable a diversas necesidades de aplicación.
Desventajas del CVD
1. 1. Alto coste del equipo y de los gases precursores
El CVD requiere equipos caros como bombas de vacío, controladores de flujo de gas y hornos de alta temperatura.
Su adquisición y mantenimiento son costosos.Además, el uso de gases precursores como el silano y el amoníaco, que no sólo son caros sino también peligrosos, se suma a las cargas financieras y de seguridad.
