El CVD (depósito químico en fase vapor) suele considerarse superior al PVD (depósito físico en fase vapor) debido a varias ventajas clave.
4 Ventajas clave del CVD sobre el PVD
1. Presiones de funcionamiento más altas
El CVD funciona a presiones más altas que el PVD.
Esto elimina la necesidad de bombas de alto vacío.
Reduce el coste si el sistema no requiere una amplia gestión de gases tóxicos.
2. Deposición sin visibilidad directa
La mayor presión, combinada con las propiedades de flujo laminar del CVD, permite la deposición no lineal.
Esto permite depositar películas conformadas sobre sustratos con superficies irregulares o en disposiciones densamente empaquetadas.
3. Películas densas y de gran pureza
El CVD puede producir películas o partículas muy puras y densas a velocidades de deposición relativamente altas.
Esta capacidad es crucial para aplicaciones que requieren un recubrimiento uniforme y una gran pureza.
El CVD también destaca por su versatilidad, ya que es capaz de depositar una amplia gama de materiales, incluidas películas finas metálicas, cerámicas y semiconductoras.
4. Beneficios económicos
El CVD ofrece ventajas económicas y reduce la necesidad de condiciones de alto vacío.
Esto aumenta el atractivo del CVD para muchas aplicaciones.
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