Los procesos de deposición, especialmente en la deposición física en fase vapor (PVD) y la deposición química en fase vapor (CVD), suelen requerir la aplicación de calor.
En el PVD, el calor se utiliza para evaporar el material de partida.
En el CVD, el calor es necesario para las reacciones químicas que conducen a la deposición.
5 Puntos clave
1. Deposición física en fase vapor (PVD)
En las técnicas de PVD, como la evaporación térmica en vacío y la deposición por cañón de electrones, el calor es esencial.
En la evaporación térmica, los crisoles se calientan con corriente eléctrica para evaporar el material.
Del mismo modo, en la deposición por cañón de electrones, se utiliza un haz de electrones para calentar el material de interés, creando una presión de vapor suficiente en el vacío.
Este calor es necesario para superar la energía de enlace del material, permitiendo su vaporización y posterior depósito sobre un sustrato.
2. Deposición química en fase vapor (CVD)
El CVD implica una reacción química en fase vapor para depositar una película sólida sobre una superficie calentada.
El proceso suele requerir altas temperaturas (en torno a 1000°C) para facilitar la evaporación de compuestos volátiles y la posterior descomposición o reacciones químicas de estos vapores en el sustrato.
Estas reacciones se activan térmicamente, lo que significa que requieren energía (calor) para proceder.
3. Calor y temperatura del sustrato
Tanto en PVD como en CVD, el sustrato suele calentarse a temperaturas de moderadas a altas (por ejemplo, de 250°C a 350°C en PVD, y hasta 1000°C en CVD).
Este calentamiento es crucial por varias razones: mejora la adhesión de la capa depositada, mejora la calidad de la película al reducir la tensión y aumentar la uniformidad y, en CVD, impulsa directamente las reacciones químicas necesarias para la deposición.
4. Conclusión
El calor es un requisito fundamental en los procesos de deposición, tanto si se utiliza para evaporar los materiales fuente en PVD como para impulsar las reacciones químicas en CVD.
La aplicación de calor garantiza la formación satisfactoria de películas finas con las propiedades deseadas sobre los sustratos.
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