Conocimiento ¿Cuál es el principio del depósito químico en fase vapor? (3 pasos clave explicados)
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Equipo técnico · Kintek Solution

Actualizado hace 2 meses

¿Cuál es el principio del depósito químico en fase vapor? (3 pasos clave explicados)

La deposición química en fase vapor (CVD) es un proceso utilizado para depositar películas finas o revestimientos sobre un sustrato mediante la reacción química de precursores gaseosos.

El principio del CVD implica tres pasos principales: evaporación de un compuesto volátil, descomposición térmica o reacción química del vapor en el sustrato y deposición de los productos no volátiles de la reacción.

Este proceso suele requerir altas temperaturas y rangos de presión específicos para facilitar las reacciones y garantizar un recubrimiento uniforme.

¿Cuál es el principio del depósito químico en fase vapor? (Explicación de los 3 pasos clave)

¿Cuál es el principio del depósito químico en fase vapor? (3 pasos clave explicados)

1. 1. Evaporación de un compuesto volátil

En el primer paso, se evapora un precursor volátil, que es un compuesto de la sustancia que se va a depositar.

Este precursor suele ser un haluro o un hidruro que se elige en función del material que se desea depositar sobre el sustrato.

El proceso de evaporación prepara el precursor para las reacciones posteriores.

2. Descomposición térmica o reacción química

Una vez que el precursor se encuentra en estado gaseoso, se introduce en una cámara de reacción donde se somete a altas temperaturas (a menudo en torno a 1000°C).

A estas temperaturas, el precursor sufre una descomposición térmica o reacciona con otros gases presentes en la cámara.

Esta reacción descompone el precursor en átomos y moléculas listos para la deposición.

3. Deposición de productos de reacción no volátiles

Los átomos y moléculas resultantes de la descomposición o reacción se depositan sobre el sustrato calentado.

Esta deposición forma una fina película o recubrimiento que se acumula uniformemente con el tiempo.

Los productos no volátiles de la reacción se adhieren al sustrato, mientras que los precursores y subproductos que no han reaccionado se eliminan de la cámara.

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