Los catalizadores utilizados en las técnicas PVD (deposición física de vapor) y CVD (deposición química de vapor) son el cobalto, el hierro, el níquel y sus aleaciones. Estos catalizadores se utilizan habitualmente en la producción de nanotubos de carbono mediante métodos CVD [10, 11]. En CVD, se pueden utilizar diferentes rutas de activación, como CVD por antorcha de plasma, deposición química en fase vapor por filamento caliente (HFCVD) y deposición química en fase vapor por plasma por microondas (MPCVD) [10]. Estos métodos pueden emplearse para hacer crecer películas de diamante de diferentes calidades sobre diversos sustratos, dependiendo de la aplicación deseada [10].
En la PVD, la técnica es diferente de la CVD, ya que implica bombardear materiales fuente sólidos en átomos y depositar estos átomos sobre sustratos, en lugar de utilizar moléculas de gas para depositar recubrimientos sólidos [29]. Por lo tanto, el PVD no suele utilizar catalizadores del mismo modo que el CVD.
En resumen, los catalizadores utilizados en la técnica CVD, incluidos los métodos PVD y CVD, son el cobalto, el hierro, el níquel y sus aleaciones. Estos catalizadores desempeñan un papel crucial en el crecimiento de nanotubos de carbono y en la deposición de películas de diamante de alta calidad.
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