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Descubra cómo funciona la deposición por pulverización catódica: un método PVD que utiliza plasma para crear películas delgadas uniformes para semiconductores, óptica y dispositivos médicos.
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Descubra cómo la evaporación por haz de electrones utiliza haces de electrones enfocados para crear películas delgadas uniformes y ultrapuras para aplicaciones ópticas y electrónicas de alto rendimiento.
Descubra los beneficios clave de la pulverización catódica para la deposición de películas delgadas, incluida una adhesión superior, alta densidad, uniformidad excepcional y una amplia compatibilidad de materiales.
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La pulverización catódica es un método clave de Deposición Física de Vapor (PVD) que utiliza bombardeo iónico para crear películas delgadas duraderas y de alta pureza para aplicaciones avanzadas.
Descubra cómo la deposición por pulverización catódica crea películas ultrafinas y altamente uniformes con una adhesión y densidad superiores para sus aplicaciones de laboratorio.
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