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La deposición de nitruro de silicio LPCVD se realiza típicamente a temperaturas de 700 °C a 900 °C. Aprenda cómo la temperatura controla la densidad, la tensión y la resistencia química de la película.
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Descubra cómo los hornos de inducción utilizan la inducción electromagnética para la fusión limpia, precisa y energéticamente eficiente de metales como el acero, el cobre y el aluminio.
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Descubra cómo los hornos de inducción de frecuencia utilizan la inducción electromagnética para la fusión rápida, energéticamente eficiente y limpia de metales. Conozca los diseños sin núcleo (coreless) y de canal (channel).
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Compare los métodos de descarga de arco, ablación láser y CVD para la síntesis de nanotubos de carbono y los pasos de purificación esenciales necesarios para materiales de alto rendimiento.
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