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Descubra cómo el recubrimiento al vacío deposita capas delgadas y uniformes para una mayor durabilidad, resistencia a la corrosión y rendimiento óptico en un entorno libre de contaminantes.
Descubra cómo el recubrimiento al vacío crea películas ultrafinas de alto rendimiento para una mayor dureza, resistencia al desgaste y propiedades ópticas en la fabricación.
Descubra cómo el recubrimiento al vacío aplica capas ultrafinas y duraderas para mejorar la resistencia al desgaste, la protección contra la corrosión y los acabados decorativos.
Descubra cómo un camino libre medio largo en la pulverización catódica con magnetrón permite la deposición de alta energía para una densidad, adhesión y pureza superiores de la película.
Aprenda el procedimiento paso a paso de la pulverización catódica magnetrónica, desde la creación del vacío hasta la ignición del plasma y la deposición de películas delgadas de alta eficiencia.
Descubra cómo el campo magnético en la pulverización catódica con magnetrón de CC atrapa los electrones para crear un plasma denso para una deposición más rápida y películas delgadas superiores.
Aprenda cómo el sputtering de magnetrón utiliza campos magnéticos para crear películas delgadas uniformes y de alta calidad para óptica, electrónica y sustratos sensibles a la temperatura.
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Aprenda cómo la pulverización catódica por magnetrón de plasma crea películas delgadas uniformes y duraderas para óptica, electrónica y recubrimientos resistentes al desgaste en un entorno de vacío.
Aprenda cómo el pulverizado catódico de magnetrón de CC utiliza campos magnéticos para crear plasma denso para un recubrimiento de película delgada eficiente y de alta pureza sobre materiales conductores.
Aprenda la física del sputtering por magnetrón, un proceso PVD de alta eficiencia para crear películas delgadas densas, puras y uniformes en investigación y fabricación.
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La pulverización catódica requiere dos presiones distintas: una presión base de alto vacío para la limpieza y una presión de trabajo de 1-100 mTorr para la estabilidad del plasma y la calidad de la película.
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